Hier schießt ein Laser kurze, intensive Pulse in eine kleine mit Wasserstoff gefüllten Kapillare und erzeugt in ihr ein Plasma – ein ionisiertes Gas. Der Laserpuls erzeugt beim Durchqueren des ...

据介绍，xLight开发了一种EUV光源，其功率是当今最先进光源的四倍。借助xLight的技术，晶圆厂可以优化图案化工艺、提高生产率和良率，从而创造数十亿美元的额外年收入。xLight的系统还将使每片晶圆的成本降低约50%，并将资本和运营支出降低三倍 ...

Nun gelang amerikanischen Forschern mit ihrer durch Laser unterstützten Kernfusion ein großer Schritt. Sie schufen ein brennendes Plasma aus extrem heißen, miteinander verschmelzenden ...

目前产生 EUV 光的方法——激光等离子体 (LPP：Laser produced plasma)——极其耗电（约 1.5 兆瓦的电力只能产生 500 瓦的光）。 而新创公司xLight则希望使用 ...

与此同时，提出的方法具有非常广泛的应用范围，特别是在短波测量领域，例如以EUV和x射线作为测量光源等。 [1] Lin N, Chen Y, Wei X, Yang W, Leng Y. Spectral purity systems applied for laser-produced plasma extreme ultraviolet lithography sources: a ...

整体而言，ASML本季度毛利率超出预期，新增订单量略低于预期。据悉，本季度新增订单中，包含12亿欧元的极紫外光刻机（EUV）订单。同时，ASML发运了第五台高数值孔径极紫外光刻系统（High NA EUV），目前共有三家客户——英特尔、三星和台积电拥有该系统。

xLight是一家半导体行业创业公司，主要业务室面向EUV极紫外光刻机，开发基于直线电子加速器的自由电子激光(FEL)技术光源系统，可显著降低成本。

AI芯片需求激增，EUV光刻技术成关键动力。 如今，人工智能芯片的需求正以指数级速度疯涨，可高昂的成本和复杂的工艺，让这项技术沦为少数公司 ...

不依赖EUV光刻机！我国科学家突破芯片研制极限 改变游戏规则！当ASML首席执行官温宁克还在宣称中国不可能独立造出顶级光刻机时，中国科学家用颠覆性创新给出了最有力的回应。复旦大学周鹏教授带领的科研团队成功突破二维半导体电子学集成度的技术瓶颈 ...

事实上，这还是ASML不能卖EUV这样的光刻机给中国的缘故，如果能够卖EUV光刻机，这个数值，可能翻倍都有可能。 也因为不能卖EUV光刻机给中国 ...