Interessanterweise hat ASML anfangs selbst eine DPP-Lichtquelle (Discharge-Produced Plasma ... Freie-Elektronen-Laser diskutiert. Dass Huawei tatsächlich einen kompletten EUV-Belichter entwickelt ...

Auch andere Wellenlängen fallen in diesen Bereich des Spektrums, etwa Argon-Plasma-Laserquellen ... ASMLs EUV-Belichter Twinscan NXE:3400 von innen. Ein Laser beschießt Plasmatropfen, um ...

提及ASML的EUV光刻机，首先从技术层面看，其技术的核心在于利用13.5纳米波长的极紫外光，通过激光驱动等离子体（Laser-Produced Plasma, LPP）生成光源 ...

与此同时，提出的方法具有非常广泛的应用范围，特别是在短波测量领域，例如以EUV和x射线作为测量光源等。 [1] Lin N, Chen Y, Wei X, Yang W, Leng Y. Spectral purity systems applied for laser-produced plasma extreme ultraviolet lithography sources: a ...

深积淀与高壁垒，ASML缘何在EUV一枝独秀？ 提及ASML的EUV光刻机，首先从技术层面看，其技术的核心在于利用13.5纳米波长的极紫外光，通过激光驱动等离子体（Laser-Produced Plasma， LPP）生成光源，将复杂电路图案投影到硅晶圆上。 这一过程涉及每秒向真空室喷射5万 ...

"Ein solcher Schwingungssensor besteht aus zwei Kernkomponenten: einem beweglichen Resonator und einem Laser, der die Bewegung des Resonators ausliest", erklärt ... Weiterhin wird ein spezielles, ...

Bei der EUV-Lithographie kommt extrem ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern zum Einsatz, um die feinen Strukturen auf den Wafer abzubilden. Peter Kürz von Zeiss SMT erläutert ...