在这场技术竞赛中，荷兰的ASML凭借其极紫外光（EUV）光刻技术占据了无可争议的霸主地位。不过，近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米 ...

本文来自微信公众号：半导体行业观察 （ID：icbank），作者：杜芹DQ， EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制程中展现出 ...

近年来，国产光刻机技术的迅速发展引起了全球半导体行业的关注。尤其是EUV（极紫外光）光刻机的研发进展，成为众多专业媒体和行业专家讨论的热点。国产EUV光刻机的技术突破不仅意味着国产半导体设备的成熟，也在全球半导体市场上占据了一席之地。

然而，这类芯片的制造高度依赖极紫外（EUV）光刻技术，该技术本身的规模化瓶颈已成为制约行业发展的关键障碍。 自2019年首批商用EUV芯片问世 ...