近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻（NIL）以及中国通过激光驱动等离子体（LDP）技术挑战ASML的新闻，并在业内再次引发了光刻 ...

在竞争对手增强生产能力的同时，美光对EUV采取了谨慎的态度。 美光公司上个月推出了第六代DRAM的原型，成为存储器半导体行业中第一个推出第六 ...

High NA EUV突破：英特尔季产3万片，imec 20nm良率90%，美光首用DRAM。 EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要 ...

本文来自微信公众号：半导体行业观察 （ID：icbank），作者：杜芹DQ， EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制程中展现出 ...

近年来，国产光刻机技术的迅速发展引起了全球半导体行业的关注。尤其是EUV（极紫外光）光刻机的研发进展，成为众多专业媒体和行业专家讨论的热点。国产EUV光刻机的技术突破不仅意味着国产半导体设备的成熟，也在全球半导体市场上占据了一席之地。

最近在网络上面，经常看到EUV光刻机通过工信部验收的消息，对这样的消息，我看用不着兴奋，也不必相信，这种消息一般 ...