本研究中，该团队联合芬兰埃博学术大学教授Ronald Österbacka，开发出原位转化的无机SiO x N y 钝化层。该钝化层通过室温下将溶液法沉积的全氢聚硅氮烷（PHPS）进行原位转化获得。相比于常见的真空物理制备方法如原子层沉积，这一方法与湿法印刷工艺更兼容。